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高純試劑是為了特定的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的一種高純試劑，其純度遠高于優(yōu)級純的試劑。
超凈高純試劑通常由低純試劑或工業(yè)品經(jīng)過純化精制而成，其工藝過程包括選料、提純、過濾、分裝、儲存等重要環(huán)節(jié)。
電子級試劑（超凈高純試劑）又稱光學與電子學專用高純化學品，主要是針對的是電子元件中使用的化學試劑，最重要的特點就是金屬含量極低。
超凈高純(VLSD) 試劑是大規(guī)模集成電路(IC) 及高檔半導體器件制造過程的專用化學品，主要用于硅單晶片的清洗、光刻、腐蝕工序中，下游應用領(lǐng)域為半導體，光伏太陽能電池，LED和平板顯示。它的純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能、可靠性都有著重要的影響。
電子級試劑常用于芯片、農(nóng)業(yè)、土壤、水質(zhì)、環(huán)境、紡織等行業(yè)。
在樣品制備時,經(jīng)常使用酸進行消解。樣品制備試劑會對測量結(jié)果產(chǎn)生重要影響。在現(xiàn)代儀器痕量分析中,任何雜質(zhì)都可能干擾測量。為最大限度減少對儀器信號的干擾,要使用雜質(zhì)含量超低的酸。
食品和制藥檢測中，通常利用電子級硝酸進行消解然后進行重金屬含量測定。電子級硝酸是各種檢測方法最常用的化學品之一。具體用到哪個級別需要根據(jù)檢測項目的痕量要求來確定。
| 國標編號 | 國標名稱 | 應用到的部分電子級試劑 |
|---|---|---|
| GBT17141-1997 | 土壤質(zhì)量鉛、鎘的測定石墨爐原子吸收分光光度法 | 鹽酸、硝酸、氫氟酸、高氯酸、磷酸氫二銨 |
| GB 7467-87 | 水質(zhì)六價鉻的測定 二苯碳酰二肼分光光度法 | 丙酮、硫酸、磷酸 |
| GB/T 17593.4-2006 | 紡織品重金屬的測定第4部分砷、汞 原子熒光分光光度法 | 硝酸 |
| GB 5009.17-2014 | 食品中總汞及有機汞的測定 | 硝酸、過氧化氫、硫酸、氫氧化鉀 |
| GBT 20380.4-2006 | 淀粉及其制品重金屬含量第4部分：電熱原子吸收光譜法測定鎘含量 | 硝酸、過氧化氫 |
| 品名 | 等級 | 應用領(lǐng)域 |
|---|---|---|
| 氫氟酸 | G2/G3 | 主要用于集成電路 (IC) 和超大規(guī)模集成電路 (VLSI) 制造中，主要用于晶圓表面清洗、芯片加工過程中的清洗和蝕刻等工序。在太陽能光伏行業(yè)中，用于硅片表面清洗、蝕刻等領(lǐng)域。在液晶顯示器行業(yè)，用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蝕刻等 |
| 異丙醇 | G2 | 在半導體工業(yè)中用作脫水劑及清洗劑 |
| 硝酸 | G1/G2/G3/G4 | 在集成電路制造工藝中主要用于硅片腐蝕工序中，用時可與醋酸配制使用 |
| 過氧化氫 | G2/G3 | 主要用作半導體硅晶片清洗劑，蝕刻劑和光刻膠去除劑，還可用于高級絕緣層制取，電鍍液無機雜質(zhì)去除，電子行業(yè)中銅、銅合金和鎵、鍺的處理，以及太陽能硅晶片的蝕和清洗 |
| 氫氧化銨 | G2/G3 | 電子級氨水主要用于清洗，以及下游化合物的合成/主要應用于半導體、液晶面板顯影劑；電子行業(yè)清洗劑 |
| 乙二醇 | G2/G3 | 用于芯片電子元器件的清洗 |
| 四甲基氫氧化銨 | G2/G3 | 主要應用于半導體、液晶面板顯影劑；電子行業(yè)清洗劑 |
| 級別 | 關(guān)鍵金屬雜質(zhì)指標控制 | 適用范圍 |
| G1 | 100ppb | 適用于ppb范圍痕量分析例如：AAS,AFS,ICP-OES |
| G2 | 10ppb | |
| G3 | 1ppb | |
| G4 | 0.1ppb（100ppt） | ppt范圍痕量分析,例如：ICP-MS |
| G4.5 | 0.05ppb（50ppt） | |
| G5 | 0.01ppb（10ppt） |
| 產(chǎn)品名稱 | 簡寫 | 級別 | 規(guī)格 | 包裝 |
| 硝酸HNO3 | HNO3 55% | G5 | 500ml | PFA |
| 硝酸HNO3 | HNO3 69% | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L/4L | PFA/加侖瓶 |
| 無水乙醇 | C2H6O | G3，G2 | 4L | 加侖瓶 |
| 氫氟酸HF | HF 38% | G5 | 500ml | PFA |
| 氫氟酸HF | HF 49% | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L/4L | PFA/加侖瓶 |
| 雙氧水H2O2 | H2O2 31% | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L/4L | PFA/加侖瓶 |
| 硫酸H2SO4 | H2SO4 96% | G4.5，G4，G3，G2 | 500ml/1L/4L | PFA/加侖瓶 |
| 鹽酸HCl | HCl 20% | G5，G4 | 500ml | PFA |
| 鹽酸HCl | HCl 36% | G4 | 4L | 加侖瓶 |
| 鹽酸HCl | HCl 37% | G3，G2 | 500ml/1L/4L | 加侖瓶 |
| 氨水NH3 | NH4OH 29% | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L/4L | PFA/加侖瓶 |
| 異丙醇IPA | IPA | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L/4L | PFA/加侖瓶 |
| 磷酸H3PO4 | H3PO4 85% | G2，G1，G0 | 500ml/1L/4L | 加侖瓶 |
| N-甲基吡咯烷酮 NMP | NMP | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L | PFA/加侖瓶 |
| 丙二醇甲醚醋酸酯PGMEA | PGMEA | G5，G4，G3，G2 | 500ml/1L | PFA/加侖瓶 |
| 丙二醇甲醚PGME | PGME | G5，G4 | 500ml | PFA |
| 醋酸HOAC | HOAC | G4.5，G4，G3，G2 | 500ml/4L | PFA/加侖瓶 |
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